Deze K&F Concept 55mm UV filter Nano-X MRC HD Ultra Low Reflection is een beschermfilter voor je camera-objectief. Het filter voorkomt een blauwe zweem op foto’s en beschermt de lens tegen krassen, vet en water. Dit model is geschikt voor lenzen met een draadmaat van 55 mm, zoals die op veel spiegelreflexcamera’s en systeemcamera’s te vinden is.
Het filter heeft een ultra lage reflectiviteit van 0,1%, waardoor lensreflecties en verblinding sterk verminderd worden. Daardoor krijg je helderdere beelden met meer contrast en scherper detail. Het filter is gemaakt van Japans optisch glas met een 28-lagen nano-coating die aan beide kanten is aangebracht. Deze coating zorgt voor water- en vetafstotende eigenschappen, krasbestendigheid en een lagere kans op condensvorming. Daarnaast vermindert de coating reflecties, wat vooral bij macrofotografie of bij veel licht nuttig is.
De CNC-framing met trapeziumpatroon maakt het filter makkelijker om te draaien en te verwijderen, waardoor je sneller kunt wisselen tussen verschillende filters of het filter kunt afnemen na gebruik. Het filter blokkeert uv-straling, wat zorgt voor natuurlijkere kleuren en minder blauwe tinten in je foto’s, zelfs bij fel zonlicht. Daarnaast vermindert het de mist of nevel die vaak bij zee- of bergfotografie kan optreden.